半導体製造プロセスの回路の線幅は単なるマーケティング用語
半導体の製造プロセスにおけるx nmなどという表現は、半導体の微細化を示す数値とされ、一般的にはシリコン上の回路のどこかの幅がx nmになっていると言われています。
2023年現在、日本では2nmクラスの半導体開発をする会社に関する報道が多くなっていますが、この2nmというのは具体的にどこの長さなのでしょうか。
IntelのAtomプロセッサー概要
Diamondville
2008年に登場45nmプロセスで製造され、Bonnellアーキテクチャを採用。スマートフォン向けがSilverthorne。...
IntelのCoreプロセッサー概要
IntelのCPUのコード名や世代、機能などを解説します。
2006年のCoreから、Raptor Lake、Meteor Lake、2024年以降のIntel 18AのLunar Lakeまでをわかりやすくしています。
Intel AtomプロセッサーIntel Atom Processor
Atomプロセッサーは低消費電力向けのPCや、小型機器、組み込み機器向けに開発された2008年3月に登場したプロセッサー。
Silverthorne
A...
